представлениям, являются кварками \\\\ глюоиами, находящимися и виртуальных состояниях.
В этой связи следует заметить, что содержание понятии В. ч. протерпело существ, изменение. Ещ╦ в не-дал╦кчш прошлом под В. ч. понимались, как правило, такио частицы в виртуальных состояниях (напр., фотоны, электроны, пионы), к-рьте были хорошо изучены в реальных состояниях. Появился класс частиц (кварки, глюоны), к-рые принципиально ло могут находиться в реальных состояниях из-за свойства кшгфайп мента в квантовой хромодипамике (см. Удержание цвета) и проявляются на опыте лишь как cnrpi/u адронпые, т. с. в онредел, смыслю В. ч. приобрели статус наблюдаемых.
Д. В. Ширков.
ВИРТУАЛЬНЫЙ КАТОД ≈ потенциальный барьер, к-рый может возникать в потоке заряж. частиц (электронов или ионов) за сч╦т создаваемого ими пространственного заряда; В. к. частично пропускает, частично
отражает этот поток. В. к. возникает, например, перед катодом вакуумного диода, работающего в режиме ограничения тока пространственным зарядом [1]. Ксли концентрация эмиттированных катодом электронов относите ль-
Распределение потенциала вблизи катода, при ограничении тона прострднгт-вшшым -зарядом (ост, х ≈ расстояние от катода, ось к≈потенциал), Фв ≈ величина В. к.; Д<р≈потенциал на анод*;.
но велика и электрическое поле, создаваемое ими, превышает внешнее поле от приложенного положительного анодного напряжения (потенциал анода ниже потенциала, соответствующего насыщению тока), то результирующее поле тормозит эмштируемые электроны у катода и ускоряет их в остальной части нож-электродного промежутка. Соответственно потенциал вблизи катода имеет минимум (рис,), и его лишим. значение фв принимается за потенциал В. к. Расстояние ZB от катода до В. к. порядка дебаевскоео радиуса экранирования. При вод кик но нении В. к. часть электро-
нов, составляющая скорости к-рмх vx < у 2«рв/т,
возвращается на катод (т ≈ м сса, е ≈ заряд электрона). Если эмиттпрованныо электроны имеют максвелловскоо распределение по скоростям (напр., для тормо:>мисси-онпого катода), то ток диода при наличии В. к. ранен
/ -е \\ ф I N
/=/эехр( ≈ ' 1 (у'э ≈ ток эмиссии, Т ≈ тем п-ра ка-
тода). На катоде с неоднородно!! по поверхности работой выхода при размере иеоднородностск А > хъ возможно образование виртуального катода ТОЛЕ>КО над пятнами с малой работой выхода (аномальный 11/ от тки эффект].
В. к. может возникать также в вакуумных многоэлектродных приборах при инжекции ускоренного электродного пучка в пространство между сеткой и следующим электродом [3, 4j. В. к. появляется и при эмиссии заряж. частиц в плазму в ленгмюровском слое (см. Приэлектродные явления) между катодом и плазмой. При большом перепаде напряжения в лонг-мюровском слое Д<р^>АГ, kTe (Te- темп-pa электронов плазмы) и отсутствии столкновений в н╦м возникают биполярные токи [2]. При этом .максимально возможный
ток с катода }=]{У~М/т, где /,- ≈ 0.61л y~kTe/M ≈ ионный ток из плазмы на катод, Af ≈ масса иона, л концентрация плазмы на границе ленгмгаронского слоя. Если эмиссия катода превышает эту величину, возникает В. к.т ограничивающий ток с катода так, что
j- ≈...-.-. ≈ . = if у М/т. При образовании В. к.
в ленгмюровском слое увеличение тока с катода воз-
можно лишь за счет увеличения концентрации
плазмы [5].
Лит.: 1) К а п но в Н. А., Электроника, 2 и:щ., М,, 1956, гл. б; 2} Г [1 л н о в с к и и В. Л , Электрический ток и гаае. Установившийся ток, М., 1971, гл.1≈2; ;j) Д о б р е ц о в Л. Н., Г о м о ю н n n a JVL В., Эмиссионная о,К'Нтриника, М., 1У66, гл. 2; 4) А л я к к е с и II, Ф-, Электронные и иоггнъш приборы, ч. 1, М., 1964, гл. 3; [∙) Те рмоэмисс ионные прсобряжшатсмш и нианотсзш^ратурная иладэта, иид ред. Г». JJ. Moiiuioca, Г. Е. IIи-куса, М., 1973, ivi. !). Ф. Г. Бакшт, А. М. Марциновский.
ВИСКОЗИМЕТРИЯ (or лат. viscosus ≈ клепки!!, ияз-ю-jii и греч. motreo -^ измеряю) ≈ совокупность методов измерения вязкости жидкостей и газов. Приборы, используемые н В., наз. вискозиметрами. Большой диапазон значений дннамич. вязкости t\\ (от ≈∙ 10~с для газов до ~1012 Па-с для расплавов пластмасс и эластомеров) и свойств исследуемых сред обусловили разнообразие методов В. и вискозиметров, позволяющих измерять т) при темп-pax от неск. К до св. 1500 К и давлениях до 1 ГПа, а также t] сжиженных газов и расплавленных металлов, агрессивных, ядовитых или нестабильных сред, г) жидкостей в живом организме или в аппаратуре непосредственно н ходе технол. процесса и т, д.
Классификация методов В. основана на геом. особен* ностях ламинарного течения, создаваемого для измерения т). Наиб, широко распространена к а п и л д я р-н а я В., в к-рой измеряется время истечения определ. объ╦ма Q вещс-ства чирез калибронанЕгьш капилляр иод действием пост, давления /?; до ф-ле Пуаз╦йля i] ≈ ≈nr^pfilQ), где г ≈ радиус, / ≈ длила капилляра. Ф-ла Пуаз╦шш справедлива для установившегося изотермич, потока в капилляре неограпич. длины, поэтому па практике приходится вводить поправки, отражающие сноцифич. особенности течения на входе капилляра и па выходе из него, изменение скорости струи, тепловые эффекты и т. д.
При р о т а ц и о н н о и В, исследуемое вещество помещают между двумя коаксиальными, цилиндрами или сферами или между плоскостью и конусом, ось вращения к-рого перпендикулярна плоскости, а вершина касается е╦". Одна из втих поверхностен вращается с частотой Q и через вещество крутящий момент М переда╦тся др. поверхности; в этом случае \\\=CM/Q, где С ≈ приборная константа, выражающаяся через геом. размеры прибора ≈ ротационного вискозиметра.
В методе падающего шарика измеряют скорость v установившегося движения шарика под действием силы тяжести, прич╦м rj=/v (р≈ро)/^) где р ≈ плотность материала шарика, р0 ≈ плотность жидкости (газа), К. ≈ приборная константа. Шарик может заменяться цилиндром или телом др. формы, а также катиться по стенке трубки, заполненной средой.
Вязкость измеряют также по сдвигу параллельных н л а с т и п, между к-рыии помещено исследуемое вещество. В этом случае т| определяется скоростью v движения одной из пластин относительно другой под действием силы /'': i\\~Fh/Sv, гдо h ≈ расстояние между пластинами, S ≈ площадь контакта образца с пластинами.
Вибрационные методы В. основаны на измерении сопротивления периодич. колебаниям тв╦рдого тола в исследуемой среде либо скорости затухания колебаний выведенного из равновесия тв╦рдого тела, закрепл╦нного на упругом подвесе и помещ╦нного в исследуемую среду. Слособы расч╦та л, по результатам вибрац. измерений зависят от конкретной геом. схемы прибора.
К наиб, распростран╦нным условным м е т о-д а лт В. относится измерение скорости истечения исследуемой жидкости из воронки с калиброванным отверстием, определение крутящего момента при вращении шпинделя с наконочником произвольной конфигурации, помещ╦нным в исследуемое вещество, и др.
Паиб. трудности В. связаны с измерением вязкости т. н. аномально вязких продуктов (псевдош/астичпых
о?
a ш
СП
О
и
283
")
}